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化學名稱:N,N-二甲基癸酰胺
CAS號:14433-76-2
分子式:C??H??NO
結構式:CH?(CH?)?C(O)N(CH?)?
DMDA 是光刻膠剝離劑和半導體清洗劑的關鍵組分,可高效溶解聚酰亞胺樹脂而不損傷硅基底。
專利依據:
東京應化工業專利(JP2011253821A)證實,含DMDA的剝離液對ArF光刻膠的清除率>99%,且銅線腐蝕率<0.1 nm/min。
三星電子專利(KR1020150078099A)將其用于OLED面板制造中的聚酰胺酸脫膜工藝,效率提升40%。
調控電極界面成膜,提升鋰離子電池循環壽命。
文獻支持:
《Journal of Power Sources》(2020)研究顯示,添加1% DMDA的LiPF?電解液可使NCM811電池在4.4V高電壓下循環500次后容量保持率達91.3%(DOI:10.1016/j.jpowsour.2020.228183)。
作為綠色溶劑替代毒性較高的DMF/DMAc。
工業實例:
先正達專利(WO2019121792A1)采用DMDA合成吡唑醚菌酯,反應收率提高12%且溶劑殘留符合FDA標準。
《Organic Process Research & Development》(2019)報道其在抗癌藥Venetoclax合成中減少異構體副產物生成(DOI:10.1021/acs.oprd.8b00417)。
對稀土、鈀等貴金屬具有選擇性萃取能力。
技術驗證:
中科院專利(CN110564978A)開發DMDA-磷酸三丁酯復合體系,從廢舊催化劑中回收鈀的純度>99.95%,萃取率≥98%。
上海博昀新材料有限公司
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N,N-二甲基癸酰胺憑借其獨特溶解性、低毒性與高熱穩定性,已成為電子化學品與綠色合成的關鍵材料。上海博昀新材料有限公司通過垂直整合的癸酸原料供應鏈與精餾純化技術,為全球客戶提供高一致性、低金屬殘留的DMDA產品。
數據來源:美國化學會(ACS)、歐洲專利局(EPO)、中國知網(CNKI),更新至2024年公開文獻。